Erfolgsstory AP&S - IMS

Die Firma AP&S International GmbH ist Spezialist, Entwickler und Hersteller von Nassprozessanlagen f√ľr die Halbleiterindustrie. Die innovativen Anlagen und Ger√§te decken alle g√§ngigen nasschemischen Prozessanforderungen f√ľr die Oberfl√§chenbehandlung von Substraten unter Reinraumbedingungen ab. Die Produkte von AP&S umfassen manuelle, halbautomatische sowie vollautomatische Nassprozessfertigungsanlagen (AWP, MultiStep), Chemieversorgungssysteme (CMS), moderne FeoL-Trocknungstechnologien f√ľr Substrate von 50 bis 300 mm. Mit Sitz in Donaueschingen, Deutschland und Servicestationen in Asien, USA und Europa beliefert heute AP&S International GmbH f√ľhrende Kunden aus der Halbleiterindustrie zur IC- oder Substratherstellung und D√ľnnwafer- Prozessierung.

Das mittelst√§ndische Unternehmen ist idyllisch in Donaueschingen gelegen, einer Gegend in der schon seit √ľber 20 Jahren nasschemiesche Prozesse f√ľr die Halbleiterindustrie entwickelt werden.


Um als qualifizierter Lieferant f√ľr anspruchsvolle Anlagen in der Halbleiterindustrie ernst genommen zu werden, ist es zwingend notwenig seine Prozesskompetenz praktisch unter Beweis zu stellen. In einer Industrie, die sich besonders durch einen sehr hohen Innovationsgrad auszeichnet ist es sehr schwer am Ball zu bleiben ohne durch kontinuierlich hohe Investitionen √ľberfordert zu werden. Mit seinem hohen technologischen Niveau stellt das IMS einen Partner dar, √ľber den wir bei AP&S sehr gl√ľcklich sind.

Als der Bedarf f√ľr eine Reinigungsanlage f√ľr Nanoimprint Templates entstand, ergab sich die Konstellation einer ‚ÄěWin-Win‚Äú-Situation. AP&S konnte mit den Erfahrungen aus der Halbleitertechnik helfen, eine Anlage zu konzipieren und anschliessend das Prozessfenster zu finden. Gleichzeitig war es m√∂glich die Anlage zu nutzen um potentielle Kunden zum IMS zu bringen und eine Anlage ‚Äěin Aktion‚Äú zu zeigen. Eine Gelegenheit, die bei vielen etablierten Kunden von AP&S nicht m√∂glich ist. Komplexe Wettbewerbssituationen und umfangreiche Geheimhaltungsrichtlinien im sensitiven High-Tech-Bereich machen dies fast unm√∂glich. Einmalige technische Rahmenbedingungen erm√∂glichen zus√§tzlich die Evaluierung von Reinigungs- und √Ątzprozessen auf Photomasken, OLED-substraten, Germanium-substraten und Galliumarsenidwafern.

Prozessanlage beim IMS

Tauglich f√ľr Sondersubtrate/Applikationen (MEMS/Photomasken) bis zu 300mm (Durchmesser (rund)), bzw 230mm‚Äú (Kantenl√§nge (quadratisch).

Prozesskonfiguration

300mm-Wafer √ľber einem Rinse-Becken

Fazit

Die Partnerschaft, die als eine lose technologische Kooperation begann wurde durch eine Mitgliedschaft im Forschungsverein gefestigt. Eine vielversprechende Basis f√ľr zuk√ľnftige Erfolgsgeschichten.


www.ap-s.de